无码精品黑人一区二区三区,综合 欧美 亚洲日本,亚洲成a∨人片在无码2023,欧美成人影院亚洲综合图

首頁(yè) > 新聞資訊 > UNICORN × KLA聯(lián)合特裝展臺(tái)|CIOE展臺(tái)7號(hào)館7B13,現(xiàn)場(chǎng)抽愛馬仕禮盒!

UNICORN × KLA聯(lián)合特裝展臺(tái)|CIOE展臺(tái)7號(hào)館7B13,現(xiàn)場(chǎng)抽愛馬仕禮盒!

2025-09-02 [56]

第二十六屆中國(guó)國(guó)際光電博覽會(huì)(CIOE)將于2025年9月10-12日在深圳國(guó)際會(huì)展中心舉辦。聚焦信息通信、精密光學(xué)、攝像頭技術(shù)及應(yīng)用、激光制造、紅外紫外、智能傳感、新型顯示及AR/VR等八大前沿領(lǐng)域。


優(yōu)尼康展臺(tái)7B13邀您觀展,本次展會(huì)由優(yōu)尼康與KLA INSTRUMENTS攜同參展,現(xiàn)場(chǎng)設(shè)備:KLA Filmetrics 光學(xué)膜厚儀、KLA 光學(xué)輪廓儀、探針式輪廓儀、 納米壓痕儀、橢偏儀等。如果您有以上設(shè)備的使用或者測(cè)樣需求,歡迎蒞臨優(yōu)尼康展臺(tái)現(xiàn)場(chǎng)進(jìn)行了解與測(cè)樣,更有豐富禮品等您領(lǐng)取。


關(guān)注優(yōu)尼康公眾號(hào)

回復(fù)【7B13】預(yù)約登記

掃碼登記

獲取CIOE觀眾門票

會(huì)議地址

深圳·國(guó)際會(huì)展中心

(寶安新館)


參會(huì)日期

2025年9月10日-12日

優(yōu)尼康展位:7號(hào)館7B13

觀眾邀請(qǐng)函

現(xiàn)場(chǎng)活動(dòng)

抽愛馬仕神秘禮盒!


歡迎您掃描上方二維碼關(guān)注優(yōu)尼康公眾號(hào),回復(fù)【7B13】預(yù)約登記,疊加多重好禮!我們準(zhǔn)備豐富的獎(jiǎng)品和活動(dòng)等您現(xiàn)場(chǎng)參與!


參展設(shè)備

KLA全陣容亮相

Filmetrics F20 單點(diǎn)便攜式膜厚測(cè)量?jī)x


您是想要知道薄膜厚度、光學(xué)常數(shù),還是想要知道材料的反射率和透過(guò)率,F(xiàn)20都能滿足您的需要。僅需花費(fèi)幾分鐘完成安裝,通過(guò)USB連接電腦,設(shè)備就可以在數(shù)秒內(nèi)得到測(cè)量結(jié)果?;谀衬K化設(shè)計(jì)的特點(diǎn),F(xiàn)20適用于各種應(yīng)用。

相關(guān)應(yīng)用:光刻膠、工藝薄膜、介電材料、硬涂層、Parylene、抗反射層、醫(yī)療設(shè)備、OLED、玻璃厚度、ITO與其他TCO。


Filmetrics F40 薄膜測(cè)量?jī)x


結(jié)合顯微鏡的膜厚測(cè)量系統(tǒng),Filmetrics的特殊膜厚測(cè)量系統(tǒng)讓用戶簡(jiǎn)單快速地測(cè)量薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù),通過(guò)分析待測(cè)膜層的上下界面間反射光譜,幾秒鐘內(nèi)就可得到測(cè)量結(jié)果。

相關(guān)應(yīng)用:光刻膠、半導(dǎo)體制造、聚合物/聚對(duì)二甲苯、生物醫(yī)學(xué)元件、MEMS微機(jī)電系統(tǒng)、盒厚、氧化物/氮化物、硅或其他半導(dǎo)體膜層、生物膜/氣泡墻厚度、植入藥物凃?qū)印?/span>硅膜、氮化鋁/氧化鋅薄膜濾鏡、聚酰亞胺、ITO導(dǎo)電透明膜。

Filmetrics F50 自動(dòng)Mapping膜厚測(cè)量?jī)x


自動(dòng)化薄膜厚度繪圖系統(tǒng),依靠F50特殊的光譜測(cè)量系統(tǒng),可以非常簡(jiǎn)單快速地獲得最大直徑450毫米的樣品薄膜的厚度分布圖。采用r-θ 極坐標(biāo)移動(dòng)平臺(tái),可以非??焖俚囟ㄎ凰铚y(cè)試的點(diǎn)并且實(shí)時(shí)獲得測(cè)試厚度,大約每秒能測(cè)試兩點(diǎn)。F50系統(tǒng)配置高精度長(zhǎng)壽命的移動(dòng)平臺(tái),力求實(shí)現(xiàn)上百萬(wàn)次的測(cè)量。

相關(guān)應(yīng)用:半導(dǎo)體制造 LCD液晶顯示器、光刻膠、聚酰亞胺、氧化物/氮化物/SOI、ITO透明導(dǎo)電膜、晶圓背面研磨、光學(xué)鍍層 MEMS微機(jī)電系統(tǒng)、硬涂層、光刻膠、抗反射層、硅系膜層。


KLA Zeta-20 白光共聚焦輪廓儀


多功能光學(xué)測(cè)試模組,Zeta-20提供多種光學(xué)測(cè)試技術(shù)滿足用戶各種領(lǐng)域測(cè)試需求。基于ZDot技術(shù),Zeta-20可以對(duì)近乎所有材料和結(jié)構(gòu)進(jìn)行成像分析,從超光滑到高粗糙度、低反射率到高反射率表面、透明到不透明介質(zhì)。

相關(guān)應(yīng)用:徽流體器件、IC晶圓表面、MEMS器件、徽齒輪/微杺械、激光打孔、磁盤倒邊


KLA iMicro 納米力學(xué)測(cè)試儀


靈活易用的力學(xué)測(cè)試可廣泛用于各種材料和應(yīng)用,iMicro 為壓痕、 硬度、 劃痕測(cè)試和多元化納米級(jí)測(cè)試等納米級(jí)力學(xué)測(cè)試設(shè)計(jì)。 iMicro 具有多量程加載驅(qū)動(dòng)器, 實(shí)現(xiàn)在寬泛的荷載和位移的范圍內(nèi)進(jìn)行測(cè)量。

相關(guān)應(yīng)用:硬涂層、陶瓷和玻璃、金屬和合金、復(fù)合材料、涂料和油漆、醫(yī)藥器械、半導(dǎo)體、電池與儲(chǔ)能材料、汽車和航空航天


Profilm3D 白光干涉輪廓儀


Profilm3D 使用垂直干涉掃描 (WLI) 與高精度的相位干涉 (PSI) 技術(shù)。以強(qiáng)大的性價(jià)比實(shí)現(xiàn)次納米級(jí)的表面形貌研究。

相關(guān)應(yīng)用:粗糙度測(cè)量;三維形貌表征;臺(tái)階高度測(cè)量


FS-1 多波長(zhǎng)橢偏儀


Film Sense FS-1多波長(zhǎng)橢偏儀采用壽命長(zhǎng) LED 光源和非移動(dòng)式部件橢偏探測(cè)器,可在操作簡(jiǎn)單的緊湊型橢偏儀中實(shí)現(xiàn)可靠地薄膜測(cè)量。

相關(guān)應(yīng)用:二氧化硅和氮化物,高介電和低介電材料,非晶和多晶材料,硅薄膜,光刻膠。高和低指數(shù)薄膜,如 SiO2, TiO2, Ta2O5, MgF2 。TCO(如 ITO),非晶硅薄膜,有機(jī)薄 膜(OLED 技術(shù))等