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改變橢偏儀入射角的方法有兩種

2019-12-25 [1269]
   自動光譜橢偏儀光譜范圍覆蓋從深紫外到可見光再到近紅外.深紫外波長非常適合測量超薄薄膜,比如納米厚度薄膜厚度,比如硅晶圓的薄膜厚度,典型值在2nm左右。對于測量許多材料的帶隙,深紫外光譜橢偏儀也非常重要。
  橢圓偏振技術(shù)是通過研究光束在樣本表面反射后偏振態(tài)變化而獲得表面薄膜厚度等信息的薄膜測量技術(shù)。
  與反射計或反射光譜技術(shù)不同的是,光譜橢偏儀參數(shù)Psi和Del并非在常見入射角下獲得。通過改變?nèi)肷浣谴笮?,可獲得許多組數(shù)據(jù),這樣就非常有助于優(yōu)化橢偏儀測量薄膜或樣本表面的能力,因此變角橢偏儀功能遠遠大于固定角橢偏儀。
  改變橢偏儀入射角的方法有兩種,一種是手動調(diào)節(jié),一種是自動調(diào)節(jié)入射角,我們可提供兩種模式的橢偏儀。
  橢偏儀特點:
  1、易于安裝
  2、基于視窗結(jié)構(gòu)的軟件,很容易操作
  3、的光學(xué)設(shè)計,以確保能發(fā)揮出*的系統(tǒng)性能
  4、能夠自動的以0.01度的分辨率改變?nèi)肷浣嵌?/div>
  5、高功率的DUV-VIS光源,能夠應(yīng)用在很寬的波段內(nèi)
  6、基于陣列設(shè)計的探測器系統(tǒng),以確保快速測量
  7、多可測量12層薄膜的厚度及折射率
  8、能夠用于實時或在線的監(jiān)控光譜、厚度及折射率等參數(shù)
  9、系統(tǒng)配備的光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)及數(shù)據(jù)庫
  10、對于每個被測薄膜樣品,用戶可以利用的TFProbe3.0軟件功能選擇使用NK數(shù)據(jù)庫、也可以進行色散或者復(fù)合模型(EMA)測量分析;
  11、三種不同水平的用戶控制模式:模式、系統(tǒng)服務(wù)模式及初級用戶模式
  12、靈活的模式可用于各種*的設(shè)置和光學(xué)模型測試
  13、健全的一鍵按鈕(Turn-key)對于快速和日常的測量提供了很好的解決方案
  14、用戶可根據(jù)自己的喜好及操作習(xí)慣來配置參數(shù)的測量
  15、系統(tǒng)有著全自動的計算功能及初始化功能
  16、無需外部的光學(xué)器件,系統(tǒng)從樣品測量信號中,直接就可以對樣品進行的校準
  17、可精密的調(diào)節(jié)高度及傾斜度
  18、能夠應(yīng)用于測量不同厚度、不同類型的基片
  19、各種方案及附件可用于諸如平面成像、測量波長擴展、焦斑測量等各種特殊的需求
  20、2D和3D的圖形輸出和友好的用戶數(shù)據(jù)管理界面。